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Kontakt |
Tel. 0721 608-48682, -46507, -45264 (jonas kaltenbach ∂does-not-exist.kit edu) |
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Vakuum |
≤ 2×10-6 mbar |
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Bedampfungskopf |
Fadenverdampfung Kohlenstoff |
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Sputtertargets |
Pt, Au, Ag, Ir, W, Cr, Pd |
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Wechselmechanismus |
Belüftungsfreier Wechsel zwischen Bedampfungs- und Sputterkopf |
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Stage |
Automatisiert, rotierend |
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Kippwinkel Stage |
± 60 ° |
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Arbeitsabstand (working distance) |
30 - 100 mm |
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Schichtdickenmessung |
Quarzkristall |
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Schichtdicke |
Bis 1000 nm (übliche Verwendung 10 nm) |
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Beschichtungsdauer |
1 – 1800 s |
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Vakuumsystem |
Ölfrei, 67 l/s Turbomolekular-Drag-Pumpe mit Membran-Vorpumpe |
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Prozessgas |
Ar |

